独特的功能
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有效分解电荷，可用于广泛种类光刻胶 (Novolac, PMMA, HSQ, mr-PosEBR, CSAR62, ZEP520A等)
在绝缘衬底上进行电子束光刻可提高图形转移的可靠性， (例子fused silica, quartz, PDMS … .)
无毒害水基配方及有极好的润湿效果
无须预先过滤，旋涂后即可使用
纯水或 IPA 清洗，无残留物
在研发及工业应用上，价格很有竞争力
含永久带电非聚苯胺聚合物, 提供高稳定性及较长保质期(室温下 2 年)
应用
推荐配套使用的工艺化学品
CSAR62(positiveresistcontainingpoly(a-methylstyrene-co-chloromethacrylic acid methyl ester),plus an acid generator in anisole solvent)
mr-PosEBR(acrylate-based positive resist in anisole solvent)
ZEP520A（positive resist in anisole solvent)
PMMA(polymethylmethacrylatepositiveresist)
HsQ (hydrogen silsesquioxane negative inorganic resist)
