RDA-Qz3是由日本Litho Tech Japan（LTJ）公司自主研究发明的一款设备。该设备是基于石英晶体微天平（Quartz Crystal Microbalance，以下简称为QCM）方法作为测量原理的高精度光刻胶显影分析仪，可以测量光刻胶在显影时的质量变化， 还可以分析光刻胶在显影期间的溶胀行为（溶胀膜的厚度和粘度分析），是开发研究彩色光刻胶，ArF光刻胶的得力助手。

WEXA-2光刻胶渗漏测量仪是由IMEC（微电子研究中心）开发，由日本Litho Tech Japan（LTJ）公司生产制造的ArF浸没式光刻胶的渗出样品采集工具。

RDA（Resist Development Analyzer）光刻胶显影分析仪是由日本Litho Tech Japan（LTJ）公司自主研究发明专用于光刻胶研发及树脂材料分析的设备，用于光刻胶成型的特征研究，全球唯一生产制造商。

VUVES-4700i是一种开放式框架曝光系统，无掩膜曝光机，配备了LDLS光源，可提供193nm和248nm的曝光波长。这种曝光系统是为光刻胶、树脂开发而使用的，适合评估和测试193nm和248nm工艺（包括浸润式工艺）的各种光刻胶。光刻胶通过该曝光系统，曝光的同时也会测试和计算对应光刻胶透光率与时间的变化，从而获得光刻胶及树脂评估的有效参数Dill ABC以及光刻胶的灵敏度Eth！该设备可以替代部分光刻机的功能，是光刻胶以及树脂厂商材料研究及开发的重要工具！

脱保护反应装置PAGA-100是由日本Litho Tech Japan（LTJ）公司自主研究发明的一款专用于后烘（PEB，Post Exposure Bake）过程中使用远红外光谱监控化学放大胶脱保护反应的装置，是以傅里叶变换红外光谱仪（Fourier Transform Infrared Spectrometer，以下简称为FTIR）为基础的化学增幅光刻胶脱保护反应、交联反应参数测定/分析装置。

APPS-30是一款日本Litho Tech Japan（LTJ）公司自主研发生产完成的HMDS雾化涂布装置。

Litho Spin Cup-200C半自动光刻胶旋转涂布设备适用于半导体工艺，制版及表面涂覆等工艺，尤其适合于科研单位，研究所，实验室。由日本Litho Tech Japan（LTJ）公司自主研发生产完成。

Litho Spin Cup-200D半自动光刻胶旋转显影清洗设备是由日本Litho Tech Japan（LTJ）公司自主研发生产完成的一款产品，该产品针对光刻工艺中的显影与清洗过程而设计，可完全代替手动显影与清洗环节，实现程序式自动化光刻胶显影与清洗工序，避免了在手动显影过程中显影液量难以控制，显影时间难以控把控，显影过程中受到污染等人为引入的不可控因素，最大程度上减少操作人员人为因素导致的显影质量问题，尤其适合于科研单位，研究所，实验室等场景。

LWB系列是日本Litho Tech Japan（LTJ）公司自主研发生产完成的新一代产品。采用高精度温度传感器，操作界面采用触摸屏操作，直观方便。其性能相当于LTJ旗下LITHOTRAC自动涂胶显影一体机中配备的高精度烘烤板以及冷却板。常常与匀胶机，显影机配套使用，适用于半导体、制版以及表面涂覆等工艺，可在企业、科研、实验室、教育等单位作科研、开发、教学用途。

LWB系列是日本Litho Tech Japan（LTJ）公司自主研发生产完成的新一代产品。采用高精度温度传感器，操作界面采用触摸屏操作，直观方便。其性能相当于LTJ旗下LITHOTRAC自动涂胶显影一体机中配备的高精度烘烤板以及冷却板。常常与匀胶机，显影机配套使用，适用于半导体、制版以及表面涂覆等工艺，可在企业、科研、实验室、教育等单位作科研、开发、教学用途。

LITHOTRAC CB-50全自动光刻胶旋转涂布设备适用于半导体工艺，制版及表面涂覆等工艺，适合于科研单位，研究所，实验室以及小批量生产场景。由日本Litho Tech Japan（LTJ）公司自主研发生产完成。

LITHOTRAC DB-50全自动光刻胶旋转显影清洗设备是由日本Litho Tech Japan（LTJ）公司自主研发生产完成的一款产品，该产品针对光刻工艺中的显影与清洗过程而设计，可完全代替手动显影与清洗环节，实现程序式自动化光刻胶显影与清洗工序，避免了在手动显影过程中显影液量难以控制，显影时间难以控把控，显影过程中受到污染等人为引入的不可控因素，最大程度上减少操作人员人为因素导致的显影质量问题，尤其适合于科研单位，研究所，实验室以及小批量生产等场景。

LITHOTRAC Dual-1000是一款由LTJ公司自主研发的适用于小批量生产，实验室研究开发用的全自动旋涂&显影设备，配备有自动旋涂单元，自动显影单元，烘烤板，冷却板，HMDS单元，真空干燥单元，晶圆卡夹，晶圆对位，自动搬运机器臂等，设定好工艺配方后可自动进行晶圆的涂布/显影/烘烤/冷却等工艺。

LITHOTRAC Dual-1000是一款由LTJ公司自主研发的适用于小批量生产，实验室研究开发用的全自动旋涂&显影设备，配备有自动旋涂单元，自动显影单元，烘烤板，冷却板，HMDS单元，真空干燥单元，晶圆卡夹，晶圆对位，自动搬运机器臂等，设定好工艺配方后可自动进行晶圆的涂布/显影/烘烤/冷却等工艺。