| 材料 | 粘度【mPas】 | 氧气惰性固化 | 固化后的折射率（589nm） | 固化后的温度稳定性 | 建议应用 |
|---|---|---|---|---|---|
| mr-UVCur26S | 15±2 | 是 | 1.518 | 最高180°C | 蚀刻掩模、分步重复NIL工艺、柔性基板的大面积结构化 |
| 可供选择的其他喷墨材料 | |||||
| InkEpo系列 | 5±0.3 8±0,5 12±1 25±1 | 不是 | 1.555 | 最高180°C | 永久光学应用（如微透镜、波导） |
| InkOrmo系列 | 7±1 12±1.5 18±2 | 不是 | 1.517-1.520 | 最高270°C | 永久光学应用（如微透镜） |
独特的功能
l卓越的压印特性
l与各种模具材料的兼容性：
nNi、Si、OrmoStamp®
l固化图案的高稳定性
l出色的抗干蚀刻性能
l用于模式传输
n紫外线/可见光透明>350nm
应用
-
l分步重复NIL流程
l柔性基板的大面积纳米结构
l连续辊对辊（R2R）NIL过程
l大批量生产
n防反射涂层
n在柔性基板上的（超级）疏水图案
n线栅偏振器
推荐配套使用的工艺化学品
