l体积小：尺寸小巧，重量轻巧。
l操作简单：尽量简易的操作流程，友好的交互界面，清晰的数据分析图表。
l集成化高：设备高度集成化，维护成本低。
l安全性高：配备急停，多种Inter-Lock，硬件检测，软件检测等多重防护。
l兼容多种尺寸的晶圆：4，6，8英寸硅片。
VUVES-4700i是一种开放式框架曝光系统，无掩膜曝光机，配备了LDLS光源，可提供193nm和248nm的曝光波长。这种曝光系统是为光刻胶、树脂开发而使用的，适合评估和测试193nm和248nm工艺（包括浸润式工艺）的各种光刻胶。光刻胶通过该曝光系统，曝光的同时也会测试和计算对应光刻胶透光率与时间的变化，从而获得光刻胶及树脂评估的有效参数Dill ABC以及光刻胶的灵敏度Eth！该设备可以替代部分光刻机的功能，是光刻胶以及树脂厂商材料研究及开发的重要工具！
产品特点
基本信息
技术参数：
(1) 光源
激光驱动光源（LDLS）
(2) 光学
VUVES-4700/4700i 具有可更换的光学单元以改变曝光波长, 更换步骤轻松快速。光学系统中，引入了四个分色镜、一个积分器和一个准直透镜。它以均匀的强度将单色光引入晶圆。
(3) 晶圆曝光单元
最多 25 个不同剂量的曝光区域。
以 N2 气体吹扫光路，抑制氧气对光的吸收和臭氧的产生。
兼容基板：4 - 8”硅片
曝光波长：193nm / 248nm
曝光面积：5x5mm2
最大曝光值：500 mJ/cm2
最小曝光单位：0.1 mJ/cm2
曝光均匀度：±10% ( 4 x 4 mm2 区域内）
(4) 测量和剂量控制工具
自动时控快门开/关
曝光能量自动控制软件
功率计（NOVA-Ⅱ）和传感器（PD-300UV-193）Ophir Optronics
(5) 透光率测量功能
通过将光照射到施加在直径为 25mm 的石英基板上的光刻胶样品上，系统测量透光率随时间的变化。
透光率测量系统配置
[1] 原位透光率测量软件
[2] 附带 Dill ABC 参数计算软件
(6) 高精度冷却器
SMC Thermo-con HEC002-A5
(7) ArF 193nm 浸没式曝光功能
可用于 ArF 浸没式曝光。
LTJ 特制的浸没式曝光舱可以模拟特殊的浸没式曝光环境及条件
设备操作方式
- 0510-85850689
- 香港九龙官塘成业街27号日升中心7楼702室
- 江苏省无锡市建筑西路599-1（1号楼）17楼1701
- 深圳市南山区粤海街道蔚蓝海岸社区兰香一街2号海王星辰大厦1102室
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