| 光刻胶 | 膜厚[um] 旋涂@3000rpm | 光谱敏感度 | 特点 |
|---|---|---|---|
| ma-P 1215 | 1.5 | 350-410nm | 可用于80µm厚膜的灰度光刻 |
| ma-P 1215G | 2.5 | ||
| ma-P 1275G | 9.5 |
独特的功能
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l对比度降低
l薄膜厚度高达60µm及以上
l灰度光刻中可能达到的图案深度范围为50-60µm
l光谱灵敏度350-450 nm
l无需放气即可进行高强度激光曝光
l水性碱性显影，用于使用基于TMAH的显影液的灰度光刻，也可用于使用含金属离子的显影液的标准二元光刻
l适用于电镀
l适用于干蚀刻工艺，例如使用CHF3、CF4、SF6
l适用于标准二元光刻后的图案回流
应用
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l在微光学、MEMS和MOEMS、显示器中制造3D图案
l模式传输方式
l紫外线成型
l蚀刻
l电镀
推荐配套使用的工艺化学品
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l稀释剂：ma-T 1050
l显影液：ma-D 532/S，mr-D 526/S（基于TMAH）用于灰度光刻，ma-D 331（基于NaOH）用于标准光刻
l去除剂：mr-Rem 700（不含NMP和NEP）、mr-Rem 500（不含NMP）、ma-R 404/S（强碱性）
