SurPass 除了可增强光刻胶与衬底之间的附着力，也可以改变衬底表面能量提高流平性，因而加强光刻胶的涂布效果。有证据显示涂布聚酰亚胺(Polyimide)的基材上有较好效果，利用减低z-potential 来改善涂布的性能从而节省涂布材料。
| 型号 | SurPass3000 | SurPass4000 |
| 水基、无毒害 | √ | √ |
| 不含VOC、已经0.2μm过滤 | √ | √ |
| 兼容各种基材，包括石英、玻璃、Ⅷ族、金属、氧化金属、聚合物、瓷、蓝宝石、塑胶（PDMS、PFPE、PET等） | √ | √ |
| PH值 | 微酸性（2.5-3.5） | 弱碱性（9.0-10.0） |
| 适合光刻胶种类：苯酚甲醛光刻树脂（phenolformaldehyde resins：DNQ/Novolac）,聚甲基丙烯酸甲酯（polymethyl methacrylate：PMMA）,聚甲基戊二酰亚胺（poly methylglutarimide：PMGI）,环氧基聚合物（epoxy based polymer：SU8），聚酰亚胺（polyimide） | 环氧光刻胶（SU-8）及电子束光刻胶（HSQ） | Novolac光刻胶（ma-N 1400,ma-N 2400及Shipley1800） |
| 涂布设备 | 旋涂/浸涂/喷涂 | 旋涂/浸涂/喷涂 |
| 雾化 | 不用 | 不用 |
| 使用过程添加物 | 不用 | 不用 |
| 有毒害化学品处理 | 不用 | 不用 |
| 危险品处理 | 不用 | 不用 |
| 排污处理 | 不用 | 不用 |
| 保存条件 | 室温 | 室温 |
| 原厂质保期 | 12个月 | 24个月 |
独特的功能
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无毒、无分解出有害物质、无溶剂挥发 VOC
水基配方，不会改变接触物表面化学或物理性质
增强光刻胶（或其它聚合物）与基材的附着力, 远胜 HMDS
使用快捷简易：旋涂（或浸入式）-> 冲洗干净 -> N2 吹干不需烘烤即可正常涂胶
兼容基材包括石英、玻璃、IIIV 族、金属、聚合物、蓝宝石等
兼容广泛光刻胶种类
可增强蒸镀金属与衬底的附着力
电铸前可增强光刻胶成型模与铜薄膜的附着力
增强附着力后可减低电子束 EBL 曝光时 BSE 排放并减低使用能量及缩短其曝光时间
省却预湿溶剂工序
非危险品，室温储存, 保质期长达 2 年
应用
推荐配套使用的工艺化学品
