我们的半自动光刻胶涂胶机有Litho Spin Cup 200C、Litho Spin Cup 800C、Litho Spin Cup 1200C三种型号，不同的型号在配置上稍有差异，均具有快速启动，稳定转速的特点，从而保证涂胶的均一性和膜厚的一致性。配备有触摸屏控制面板，多档调速，实时监控转速，设备运行后自动开启安全锁等功能。
Litho Spin Cup-200C半自动光刻胶旋转涂布设备适用于半导体工艺，制版及表面涂覆等工艺，尤其适合于科研单位，研究所，实验室。由日本Litho Tech Japan（LTJ）公司自主研发生产完成。
产品特点
基本信息
技术参数：
l衬底：2-8英寸硅晶圆
l手动晶圆对位导向器
l低粘度药液喷管：1条
l转速：0-5000rpm
l旋转加速度：100至9900rpm/秒
l旋转精度：60-5000rpm±1%
l使用界面：触摸屏面板
l旋转程序：可记忆30个步骤和50个程序
l晶圆边缘去除器
l晶圆背面冲洗
l不锈钢压力罐
l可编程旋转杯排气阻尼器
l10L废液桶
设备操作方式
- 0510-85850689
- 香港九龙官塘成业街27号日升中心7楼702室
- 江苏省无锡市建筑西路599-1（1号楼）17楼1701
- 深圳市南山区粤海街道蔚蓝海岸社区兰香一街2号海王星辰大厦1102室
关注我们
Copyright 2024 深圳市利满洋行实业发展有限公司 版权所有
粤ICP备88888888号