显影工艺有多种方法可以实现，有Dip（浸泡式显影）、Spray（喷淋式显影）、Puddle（利用表面张力，将显影液扩散到整个基板表面），本设备采取的是puddle式显影，配备有触摸屏控制面板，多档调速，实时监控转速，设备运行后自动开启安全锁等功能。
Litho Spin Cup-200D半自动光刻胶旋转显影清洗设备是由日本Litho Tech Japan（LTJ）公司自主研发生产完成的一款产品，该产品针对光刻工艺中的显影与清洗过程而设计，可完全代替手动显影与清洗环节，实现程序式自动化光刻胶显影与清洗工序，避免了在手动显影过程中显影液量难以控制，显影时间难以控把控，显影过程中受到污染等人为引入的不可控因素，最大程度上减少操作人员人为因素导致的显影质量问题，尤其适合于科研单位，研究所，实验室等场景。
产品特点
基本信息
技术参数：
l衬底：2-8英寸硅晶圆
l手动晶圆对位导向器
l碱性显影液喷管：1条
lPuddle显影
l转速：0-5000rpm
l旋转加速度：100至9900rpm/秒
l旋转精度：60-5000rpm±1%
l使用界面：触摸屏面板
l旋转程序：可记忆30个步骤和50个程序
lDIW冲洗喷管
l晶圆背面冲洗
l不锈钢压力罐
l20L废液桶
设备操作方式
- 0510-85850689
- 香港九龙官塘成业街27号日升中心7楼702室
- 江苏省无锡市建筑西路599-1（1号楼）17楼1701
- 深圳市南山区粤海街道蔚蓝海岸社区兰香一街2号海王星辰大厦1102室
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