APPS-30是一款日本Litho Tech Japan（LTJ）公司自主研发生产完成的HMDS雾化涂布装置。

Litho Spin Cup-200C半自动光刻胶旋转涂布设备适用于半导体工艺，制版及表面涂覆等工艺，尤其适合于科研单位，研究所，实验室。由日本Litho Tech Japan（LTJ）公司自主研发生产完成。

Litho Spin Cup-200D半自动光刻胶旋转显影清洗设备是由日本Litho Tech Japan（LTJ）公司自主研发生产完成的一款产品，该产品针对光刻工艺中的显影与清洗过程而设计，可完全代替手动显影与清洗环节，实现程序式自动化光刻胶显影与清洗工序，避免了在手动显影过程中显影液量难以控制，显影时间难以控把控，显影过程中受到污染等人为引入的不可控因素，最大程度上减少操作人员人为因素导致的显影质量问题，尤其适合于科研单位，研究所，实验室等场景。

LWB系列是日本Litho Tech Japan（LTJ）公司自主研发生产完成的新一代产品。采用高精度温度传感器，操作界面采用触摸屏操作，直观方便。其性能相当于LTJ旗下LITHOTRAC自动涂胶显影一体机中配备的高精度烘烤板以及冷却板。常常与匀胶机，显影机配套使用，适用于半导体、制版以及表面涂覆等工艺，可在企业、科研、实验室、教育等单位作科研、开发、教学用途。

LWB系列是日本Litho Tech Japan（LTJ）公司自主研发生产完成的新一代产品。采用高精度温度传感器，操作界面采用触摸屏操作，直观方便。其性能相当于LTJ旗下LITHOTRAC自动涂胶显影一体机中配备的高精度烘烤板以及冷却板。常常与匀胶机，显影机配套使用，适用于半导体、制版以及表面涂覆等工艺，可在企业、科研、实验室、教育等单位作科研、开发、教学用途。

LITHOTRAC CB-50全自动光刻胶旋转涂布设备适用于半导体工艺，制版及表面涂覆等工艺，适合于科研单位，研究所，实验室以及小批量生产场景。由日本Litho Tech Japan（LTJ）公司自主研发生产完成。

LITHOTRAC DB-50全自动光刻胶旋转显影清洗设备是由日本Litho Tech Japan（LTJ）公司自主研发生产完成的一款产品，该产品针对光刻工艺中的显影与清洗过程而设计，可完全代替手动显影与清洗环节，实现程序式自动化光刻胶显影与清洗工序，避免了在手动显影过程中显影液量难以控制，显影时间难以控把控，显影过程中受到污染等人为引入的不可控因素，最大程度上减少操作人员人为因素导致的显影质量问题，尤其适合于科研单位，研究所，实验室以及小批量生产等场景。

LITHOTRAC Dual-1000是一款由LTJ公司自主研发的适用于小批量生产，实验室研究开发用的全自动旋涂&显影设备，配备有自动旋涂单元，自动显影单元，烘烤板，冷却板，HMDS单元，真空干燥单元，晶圆卡夹，晶圆对位，自动搬运机器臂等，设定好工艺配方后可自动进行晶圆的涂布/显影/烘烤/冷却等工艺。