CB-50具有快速启动，稳定转速，全自动程式化涂胶，多段旋转，控温控湿等特点，从而保证涂胶的均一性和膜厚的一致性。可配置边缘去除，背面清洗，HDMS涂覆单元，ARC（抗反射涂层）涂覆单元，多块冷板，热板，真空干燥等多功能单元。
LITHOTRAC CB-50全自动光刻胶旋转涂布设备适用于半导体工艺，制版及表面涂覆等工艺，适合于科研单位，研究所，实验室以及小批量生产场景。由日本Litho Tech Japan（LTJ）公司自主研发生产完成。
产品特点
基本信息
CB-50配置：
l旋涂机组单元（可连接温湿度控制器）
l200℃烘烤板
l300℃烘烤板
lHMDS烘烤单元
l带对中导向装置的冷却板
l冷却板
l真空干燥单元
l晶圆卡式载物台
l晶圆真空吸附
l操作界面：触摸屏面板
l自动滴液系统
l晶圆边缘去除器
l晶圆背面冲洗器
l双臂晶圆转移机器臂
l温湿度控制送风系统
l不锈钢压力罐若干个（用于存放药液）
l废液桶若干个
CB-50技术参数：
l衬底：2-8英寸硅晶圆（可定制方形玻璃片）
l转速：0-5000rpm（1 rpm步进）
l旋转加速度：100至9900rpm/秒（100 rpm步进）
l最长处理时间：999.9秒（0.1秒步进）
l旋转精度：60-5000rpm±1%
l旋转程序配方：每个配方可记忆30道工序，最高可设置50个配方
l热板温度：最高200/300℃PID控制
l热板温度精度：100℃±0.5℃，200℃±2℃，300℃±2%
l烘烤条件设置：烘烤温度60℃到200℃（0.1℃步长）
l烘烤时间：最长可达9999秒（步长为1秒）
lHMDS烘烤单元温度：最高150℃PID控制
lHMDS温度精度：100℃±0.5℃
l冷板温度：10-30℃
l冷板温度精度：23摄氏度±0.5℃
设备操作方式
- 0510-85850689
- 香港九龙官塘成业街27号日升中心7楼702室
- 江苏省无锡市建筑西路599-1（1号楼）17楼1701
- 深圳市南山区粤海街道蔚蓝海岸社区兰香一街2号海王星辰大厦1102室
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