应用：微纳加工、半导体工序研发及工艺优化。
销售对象：院校、科研实验室，企业研发部门。
科技领域及行业：光通讯、5G、光电子集成、 化合物及硅基半导体器件的制作。
涉及技术：光刻、纳米压印、加热压印、电子束直写、激光直写
应用：光刻胶及其原料的产学研。
销售对象：院校、半导体/信息科技及电子化学品/新材料科研实验室，光刻胶及其原料企业研发部门；树脂厂商，复合化合物，感光材料生产商。
科技领域及行业： LTJ服务日本光刻胶行业数十年，沿用与美国光刻专家Chris Mack 所创的Mack model， 光刻胶的特性作出分析。使用LTJ的设备采摘到的参数不仅对光刻胶的特性作研发十分重要，对后续模拟仿真涉及技术：光学、物理、化学。
应用：节省光刻工艺设计和优化的成本。
目标用户：技术研究所、大学、设备制造商，他们是光刻工艺研究人员、设计师等。
科技领域及行业：光刻高达45nm节点，E-Beam直写，激光直写，FPD，光掩模，半导体，NIL，5G，纳米级器件制造商。
涉及的技术：扫描式和步进式曝，电子束曝光，激光曝光。
应用：专注于提高扫描电子显微镜（SEM）使用的均匀性、可靠性、准确性和用户友好性。
目标用户：纳米器件制造商、扫描电镜操作员、纳米器件研究所。
科技领域及行业：E-Beam直写，激光直写。
涉及的技术：边缘粗糙度，线宽粗糙度，自动边缘查找，多形状特征测量，横截面测量，轮廓查找，批量测量，一键找相似。
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