显影工艺有多种方法可以实现，有Dip（浸泡式显影）、Spray（喷淋式显影）、Puddle（利用表面张力，将显影液扩散到整个基板表面），本设备采取的是puddle式显影，配备有触摸屏控制面板，多档调速，实时监控转速，设备运行后自动开启安全锁，双显影舱，自动控温，全自动程式化显影，清洗，烘烤等功能。
LITHOTRAC DB-50全自动光刻胶旋转显影清洗设备是由日本Litho Tech Japan（LTJ）公司自主研发生产完成的一款产品，该产品针对光刻工艺中的显影与清洗过程而设计，可完全代替手动显影与清洗环节，实现程序式自动化光刻胶显影与清洗工序，避免了在手动显影过程中显影液量难以控制，显影时间难以控把控，显影过程中受到污染等人为引入的不可控因素，最大程度上减少操作人员人为因素导致的显影质量问题，尤其适合于科研单位，研究所，实验室以及小批量生产等场景。
产品特点
基本信息
DB-50配置：
l旋转显影单元2个（有机以及碱性显影）
l200℃烘烤板
l带对中导向装置的冷却板
l冷却板
l晶圆卡式载物台
l晶圆真空吸附
l双臂晶圆转移机器臂
l操作界面：触摸屏面板
l自动滴液系统
l不锈钢压力罐若干个（用于存放药液）
l废液桶若干个
DB-50技术参数：
l衬底：2-8英寸硅晶圆（可定制方形玻璃片）
l转速：0-5000rpm（1 rpm步进）
l旋转加速度：100至9900rpm/秒（100 rpm步进）
l最长处理时间：999.9秒（0.1秒步进）
l旋转精度：60-5000rpm±1%
l旋转程序配方：每个配方可记忆30道工序，最高可设置50个配方
l热板温度：最高200℃PID控制
l热板温度精度：100℃±0.5℃，200℃±2℃
l烘烤条件设置：烘烤温度60℃到200℃（0.1℃步长）
l烘烤时间：最长可达9999秒（步长为1秒）
l冷板温度：10-30℃
冷板温度精度：23摄氏度±0.5℃
设备操作方式
- 0510-85850689
- 香港九龙官塘成业街27号日升中心7楼702室
- 江苏省无锡市建筑西路599-1（1号楼）17楼1701
- 深圳市南山区粤海街道蔚蓝海岸社区兰香一街2号海王星辰大厦1102室
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