| 光刻胶 | 膜厚[um] 旋涂@3000rpm | 推荐的模具 | 特点 |
|---|---|---|---|
| mr-NIL200-100nm | 100 | 无孔的 | 无需增粘剂 |
| mr-NIL200-200nm | 200 | ||
| mr-NIL200-300nm | 300 |
独特的功能
-
l无需在不同的基材（Si、SiO2、Al、蓝宝石、Cu、不同的底层材料，如LOR、UL1、UL3）上使用增粘剂
l可在空气存在的环境条件下固化
l低粘度可快速填充空腔，并将气泡缺陷的倾向降至最低
应用
-
l用于制造集成光学器件的预旋涂薄膜上的分步重复纳米压印
l可高效制造光子和光学图案
推荐配套使用的工艺化学品
-
l稀释剂：mr-T 1078
l增粘剂：不需要（mr-NIL200膜厚度>300nm使用mr-APS1）
