| 光刻胶 | 膜厚[um] 旋涂@3000rpm | 推荐的模具 | 特点 |
|---|---|---|---|
| mr-NIL210-100nm | 100 | 多孔软模具（如PDMS） | 优异的薄膜稳定性 |
| mr-NIL210-200nm | 200 | ||
mr-NIL210-500nm | 500 |
独特的功能
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l即使在空气中（存在氧气）也具有优异的固化性能
l与用于软NIL的PDMS模具兼容，优先选择与UV-PDMS KER-4690组合使用
l对硅、石英或铝等各种基板具有出色的干蚀刻稳定性
l纯有机光刻胶，固化后可使用氧等离子体去除残留物
应用
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l用于图案转移工艺的蚀刻掩模（干法和湿法蚀刻）
l纳米结构的制备
lLED、光子晶体
l图案化蓝宝石衬底（PSS）
l微电子
l有机电子（OLED、OPV、OTFT）
l数据存储（位模式介质）
推荐配套使用的工艺化学品
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l稀释剂：mr-T 1078
l增粘剂：mr-APS1
