| 光刻胶 | 膜厚[um] 旋涂@3000rpm | 推荐的模具 | 特点 |
|---|---|---|---|
| mr-XNIL26SF | 4.8 | 无孔的模具 | 高氟含量，低释放力，r.t.工艺，低RI，无溶剂 |
独特的功能
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l含氟成分含量高，易于脱模，缺陷率低
l100%有机，易于用氧气等离子体剥离
l可使用PGMEA或ma-T 1050稀释至100nm膜厚
l固化材料的低折射率（RI=1.40）
应用
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l用于对较低的释放力至关重要的NIL应用（例如多层堆叠的压印）
推荐配套使用的工艺化学品
