为什么要使用纳米压印脱模剂：
l在复制模具时, 最关建的步骤, 就是可否脱模成功。如要避免粘模, 就要尽量减少模具的表面张力
lBGL-GZ-83 是一种快速、简易涂在模具上的脱模剂, 并已测试在很多应用上, 例如在复制微/纳米器件上
特点：
l只要在模具上涂上 BGL-GZ-83(脱模剂), 旋涂一分钟, 8 小时后即可使用
lBGL-GZ-83 只需一部旋涂机, 不同传统的脱模剂, 要蒸镀过程几小时及需要复杂的测试及设置
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l快速简易应用
l减低模具表面张力
l尽量降低光刻胶粘在模具上
l有成本效益
l只需旋涂机
l在室温下操作
l应用在微/纳米的器件
l玻璃瓶包装: 多种容量可供选购, 标准包装 250ml
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BGL-GZ-83 的操作指南:
在 Si/SiO2 模具上的工序:
(1)首先清洁模具(如有需要)，但要视乎个别材质, 例如: 放在(120℃热烤板x1 分钟), 这对消除模具材料的水气很有帮助，然后可放在涂胶机上冷却至室温
(2)涂胶机设置: 1000rpm x 30 秒及 2000rpm x 30 秒 (加速点: 1600rpm/秒)
(3)分布 BGL-GZ-83 (推荐注射器用 0.2μm Telfon 过滤网), 这样模具得以完全覆盖, 又可立刻开始涂胶
(4)８小时后脱模功能开始
在 Ormostamp 模具上的工序:
(1)首先清洁模具(如有需要)
(2)涂胶机设置: 1000rpm x 30 秒及 2000rpm x 30 秒(加速点: 1600rpm/)
(3)分布 BGL-GZ-83 (推荐注射器用 0.2μm Telfon 过滤网),这样模具得以完全覆盖, 又可立刻开始涂胶
(4)涂胶后, 硬烤 Ormostamp (130℃ x 10 分钟)
(5)如想有最佳效果, 硬烤后请再涂 BGL-GZ-83 一次
(6)８小时后脱模功能开始
