| 材料 | 折射率（589nm） | 粘度（Pas） | 首选工艺 | 典型的终端应用 | 使用PDMS模具复制（无氧气敏感性） |
|---|---|---|---|---|---|
OrmoStamp | 1.516 | 0.4±0.2 | 紫外压印，紫外线成型 | 模具制造 | + |
| 可供选择的混合聚合物材料 | |||||
OrmoClearFX | 1.555 | 1.5±0.3 | 紫外压印，紫外线成型 | 纳米和微米光学 | + |
| OrmoClear | 1.555 | 2.9±0.3 | 紫外压印，紫外线成型 | 纳米和微米光学 | - |
OrmoClear30 | 1.561 | 30±0.5 | 紫外压印，紫外线成型 | 微米光学 | - |
| OrmoComp | 1.520 | 2.0±0.5 | 紫外压印，紫外线成型 | 纳米和微米光学 | + |
| OrmoClad | 1.537 | 2.5±1.0 | 紫外压印，紫外线成型 | 波导 | - |
| OrmoCore | 1.555 | 2.9±0.4 | 紫外压印，紫外线成型 | 波导 | - |
独特的功能
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l对近紫外线和可见光高度透明
l高热稳定性和机械稳定性
l增强了其防粘性能，实现低剥离力
l使用标准光刻设备进行处理
应用
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l透明印章制作
l具有成本效益的石英印章替代品
l基于紫外线和热压印，纳米压印光刻
l单个元件或晶圆级
推荐配套使用的工艺化学品
