| 光刻胶 | 膜厚[um] 旋涂@3000rpm | 推荐的模具 | 特点 |
|---|---|---|---|
| mr-NIL212FC-100nm | 100 | 多孔软模具（如PDMS） | 优异的薄膜稳定性 |
| mr-NIL212FC-200nm | 200 | ||
| mr-NIL212FC-300nm | 300 |
独特的功能
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l由于集成的FC技术（快速固化）可用于100nm以下的结构，因此具有优异的结构稳定性
l与低功率曝光源相结合的完美固化特性（例如标准掩模对准器）
l与用于软NIL的PDMS模具兼容，优先选择与UV-PDMS KER-4690组合使用
l在RIE工艺中，与mr-NIL210相比，此系列提供了更优越的蚀刻选择性l纯有机，固化后可使用氧等离子体去除残留物
应用
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l用于图案转移工艺的蚀刻掩模（干法和湿法蚀刻）
l纳米结构的制备
lLED、光子晶体
l图案化蓝宝石衬底（PSS）
l微电子
l有机电子（OLED、OPV、OTFT）
l数据存储（位模式介质）
推荐配套使用的工艺化学品
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l稀释剂：mr-T 1050
l增粘剂：mr-APS1
