LITHO TECH JAPAN (LTJ) 是一家为日本、韩国、中国台湾、中国大陆的半导体行业贡献了超过35年的半导体技术研发公司。LTJ尤其光蚀刻(Photo lithography)领域有超卓的地位。无论是UV、DUV或EUV光刻,LTJ凭着丰富的经验和可靠的设备帮助客户筛选、评估、优化各种光刻胶及原物料,树脂、光敏化合物及光致产酸剂亦是LTJ的主要服务范围,三十多年来和各方专家合作累积了大量科研实验成果的文献供业界参考。
LTJ 开发制造用于光刻胶、光刻胶树脂等原料研发、分析设备是该应用领域全球唯一得生产制造商。其设备也成为日本及欧美光刻胶及树脂研发公认及标准化设备。LTJ的日本客户包括全部日系光刻胶生产商及其大部分原料供应商。业界更持续获益于LTJ建立的质控标准。可见LTJ设备享有极高的尊崇及认受性。
LTJ多年来推广的虚拟光刻,软硬件兼用,使繁复的光刻工艺变得轻松可控,最近数年获得不少中国国内光刻胶研发人员的赏识,实行在业界一展专长,现时正和各院校、企业展开不同的合作项目。LTJ的另一部门主理光刻工艺流程设备,包括高精度涂胶显影半自动及全自动设备,LTJ体现一贯的高要求令客户放心携手打造全条光刻胶及树脂研发及小批量生产线。
Nanosystem Solutions公司成立于2004年12月,成立至今已超20年历史得到了日本先进工业科学技术研究所的支持。以他们独特的光学技术为核心,利用纳米制造和测量领域的专业技术来满足客户的需求。目前,他们专注于经营无掩模光刻设备业务,这是一种利用数字微镜器件(DMD)而不需要掩模的光刻设备。
NSS在审视自己的技术时会深入挖掘,并将继续致力于成为世界上第一个专门从事光学激光器和纳米图像处理的工匠团队。为了实现这一目标,NSS始终保持着创新的视角,以应对新行业扩张的挑战,更重要的是,他们始终保持工匠的灵魂,并掌握精湛的技术。
GenISys 总部位于慕尼黑(德国),在横滨(日本)和加利福尼亚州(美国)设有办事处,开发、营销和支援灵活、高性能的软件解决方案,以优化微纳米制造工艺。针对光刻和检测市场,GenISys在布局数据处理、工艺建模、校正和优化方面拥有深厚的技术专长,具有高水准的软件工程和对易用性的关注。
GenISys 产品为研究人员、制造商和系统供应商提供了无与伦比的效率、易用性和未来纳米图案技术的研究、开发和生产的最佳价值。作为一家专注于客户服务的公司,GenISys 为满足客户需求所需的功能的应用和开发提供快速、高度专注的支持。
Micro Resist Technology GmbH 是一间领先于创新光刻胶、聚合物、感光树脂及微光刻、纳米光刻及微光学的辅助设备等的研发、生产及市场推广的企业。MRT的产品可应用在微形系统技术、微形电子、微纳米光子、微纳米工程及生命科学。
公司成立于1993年, 是一所德国中形化学企业, 在柏林生产特别的物料, 服务于全球的高科技市埸, 产品应用在紫外光, 激光, X光及电子束光刻, 纳米压印光刻图形转移技术。
DisChem为先进的光刻制造提供创新的化学解决方案。
从全息图像、光学介质到最先进的光刻和电子束制造,DisChem拥有提高产量、降低成本和工艺浪费的化学解决办法。