| 光刻胶 | 膜厚[um] 旋涂@3000rpm | 光谱敏感度 | 特点 |
|---|---|---|---|
| EpoCore 2 | 2 | i-line-365nm | 830 nm处的折射率： EpoCore:1.58， EpoClad:1.57， 低收缩率， 热稳定性高达230°C， 850nm时的低光学损耗±0.2dB/cm |
| EpoCore 5 | 5 | ||
| EpoCore 10 | 10 | ||
| EpoCore 20 | 20 | ||
| EpoCore 50 | 50（@1.500rpm） | ||
| EpoClad 2 | 2 | ||
| EpoClad 5 | 5 | ||
| EpoClad 10 | 10 | ||
| EpoClad 20 | 20 | ||
| EpoCore 50 | 50（@1.700rpm） |
Unique features
- 标准UV光刻和PCB技术处理
- 芯层和包层的紫外线图案化
- 850 nm时透光率高
- 高热（>230°C）和耐压性
- 可调折射率（纤芯/包层）
application
- 光学SM和MM聚合物波导
- 生物传感器（多功能系统）
- 微流体学
Recommended process chemicals for matching use
- 稀释剂：无
- 显影液：mr-Dev 600（溶剂型）
- 去除剂：mr-Rem 700（不含NMP和NEP）、mr-Rem 500（不含NMP）、O2 -Plasma
